期刊简介
本刊是经国家科委批准，国内外公开发行的中文预防医学，卫生学类核心期刊，主要读者对象为从事职业与环境卫生、预防医学职业病临床、安全环保等工作的科研人员，高等院校的师生，工矿医务人员，以及职业卫生、安全环保、劳动保护领域的管理人员。
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首页>工业卫生与职业病杂志
- 杂志名称：工业卫生与职业病杂志
- 主管单位：中国钢铁工业协会
- 主办单位：鞍山钢铁集团公司
- 国际刊号：1000-7164
- 国内刊号：21-1147/R
- 出版周期：月刊
期刊荣誉：全国优秀科技期刊期刊收录：万方收录(中), 上海图书馆馆藏, 维普收录(中), JST 日本科学技术振兴机构数据库(日), CSCD 中国科学引文数据库来源期刊(含扩展版), 国家图书馆馆藏, 知网收录(中), 北大核心期刊(中国人文社会科学核心期刊), CA 化学文摘(美), 统计源核心期刊(中国科技论文核心期刊)
外向钾通道在纳米SiO2致内皮细胞毒性中的作用
杨莉；闫庆倩；赵婧；李俊；杨磊；王正伦
关键词：外向钾通道, 纳米二氧化硅, 离子通道阻断剂, 膜片钳, 血管内皮细胞
摘要：目的 探讨电压依赖性外向钾通道(voltage-dependent potassium channel,Kv)在纳米二氧化硅(SiO2)致血管内皮细胞毒性中的作用,以验证钾外流与纳米SiO2致细胞炎性反应的关系.方法 以人脐静脉内皮细胞(HUVECs)正常培养为阴性对照组,单独加入20 μg/ml纳米SiO2为阳性对照组,在20 μg/ml纳米SiO2基础上添加不同剂量的Kv通道阻断剂氯化四乙胺(TEA-C1)或4-氨基吡啶(4-AP)为实验组,检测各组细胞存活率、乳酸脱氢酶(LDH)活力、肿瘤坏死因子(TNF-α)以及白介素-6(IL-6)释放量.用全细胞膜片钳电生理测定正常HUVECs及染不同浓度纳米SiO2时Kv电流变化,验证纳米SiO2对血管内皮细胞Kv的影响.结果 与阴性对照(正常细胞组)比较,纳米SiO2(阳性对照组)导致内皮细胞存活率明显降低,LDH活力、TNF-α和IL-6释放量明显增加.与阳性对照组比较,加入钾通道阻断剂TEA-C1或4-AP后,细胞存活率明显升高,但高剂量阻断剂组反而降低.钾通道阻断剂也导致LDH活力降低,但在高剂量时甚至达到阳性对照水平.只有高剂量TEA-CI使TNF-α释放量明显减少,而4-AP自低列高剂量使TNF-α释放量逐渐降低,呈剂量-效应关系.TEA-C1和4-AP均可明显降低纳米SiO2诱导IL-6释放量.膜片钳电生理实验中,内皮细胞Kv电流表现延迟整流特性,4-AP对该电流的抑制作用明显.与阴性对照(正常细胞组)比较,纳米SiO2导致外向钾电流明显增大,激活曲线左移,斜率因子降低(P＜0.05),表明Kv活性增加,通道开放速率明显增高.结论 纳米SiO2可引起细胞炎性反应,Kv开放引起的钾外流增加在该毒性效应中可能起着活化细胞、激活炎性体的早期信号作用.
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